1.研究助成プログラム「産業基盤の創生」

募集分野は情報・通信、エレクトロニクス、機械・精密、オプティクス・フォトニクス、応用化学、応用物理、ナノテクノロジー・材料です。また、医工連携などの融合テーマや新興テーマなど新たな挑戦的な研究も募集対象です。
助成申請額:1件あたりの助成申請額1,500万円を上限として、全体で10数件程度を予定しています。
助成期間:1年間または2年間

2.応募資格

国内の大学および大学院(付属機関を含む)、大学共同利用機関、高等専門学校、その他公的研究機関等の何れかに勤務し、当該機関で実質的に研究できる方です。

4.電子申請期間

産業基盤の創生:2015年6月1日10時から6月30日15時

5.詳細情報

下記の当財団ホームページをご覧下さい。